所属弁理士

アペリオ国際特許事務所では、豊富な経験と知識を有する弁理士がクライアントの知的財産権を守るために全力を尽くしております。
知的財産権に関する総合的なサポート・アドバイスを提供させていただくのはもちろんのこと、当事務所が有する世界的なネットワークを使い、外国へのビジネス進出(起業)などについてもお手伝いいたします。

代表
弁理士・米国弁護士 森 友宏
弁理士・米国弁護士 森 友宏

Education

1995年 東京大学 工学部 産業機械工学科 卒業

2006年 中央大学 法学部 卒業

2008年 The George Washington University Law School LL.M.課程 修了

Work Experience

1997年~2006年 国内特許事務所に勤務

2002年~2003年 米国ワシントンDC、Wenderoth, Lind & Ponack, L.L.P.にて実務研修

2008年~2009年 米国ポートランド、Marger Johnson & McCollom P.C.に勤務

2006年~ 森特許事務所を開設

2011年~ アペリオ国際特許事務所の代表に就任

Bar Admissions

1997年 弁理士登録

2007年 付記登録(特定侵害訴訟代理業務可能)

2008年 米国Patent Agent試験合格

2009年 米国弁護士登録 (Illinois州)

Professional Memberships

日本弁理士会 (委員活動:国際活動センター、アミカスブリーフ委員会、知財訴訟委員会)

American Bar Association (ABA)

American Intellectual Property Law Association (AIPLA)

The National Association of Patent Practitioners (NAPP)

アジア弁理士協会(APAA)

Books & Articles

・「米国の先願主義への移行における日本の出願人にとっての留意点」パテント第66巻第4号、日本弁理士会、2013年3月10日、pp.1-13

Interviews

・「特許取得のメリットと課題を弁理士に聞く」 B STYLE 2005年12月号(WizBiz発行)

・フジサンケイビジネスアイ 2012年12月26日付紙面

弁理士 高橋 康久
弁理士 高橋 康久

Education

2006年 早稲田大学 理工学部 応用物理学科 卒業

2008年 早稲田大学大学院 理工学研究科 応用物理学専攻 光物理学専修 修士課程 修了

Work Experience

2008年~2011年 国内大手化学・光学メーカーに勤務

2011年~ 国内特許事務所に勤務

2018年~ アペリオ国際特許事務所に入所

Bar Admissions

2011年 弁理士登録

Professional Memberships

日本弁理士会

Books & Articles

・Y. Takahashi and S. Komatsu: Optimized free-form phase mask for extension of depth of field in wavefront-coded imaging, Opt. Lett., Vol.33, No.13 (2008) 1515-1517

共同代表
弁理士 加川 征彦

Education

1968年 大阪大学 基礎工学部 機械工学科 卒業

Work Experience

1978年~1985年 国内特許事務所に勤務

1985年~ 加川特許事務所を開設

2011年~ アペリオ国際特許事務所の共同代表に就任後、顧問となる

Bar Admissions

1984年 弁理士登録

Professional Memberships

日本弁理士会

顧問
弁理士 朝比 一夫

Education

1980年 中央大学 法学部 卒業

Work Experience

1981年~1991年 国内特許事務所に勤務

1991年~ 朝比・増田特許事務所を開設

2018年~ アペリオ国際特許事務所の顧問に就任

Bar Admissions

1984年 弁理士登録

2008年 付記登録(特定侵害訴訟代理業務可能)

Professional Memberships

日本弁理士会

Television

・1989年~1990年 NHKテレビ放送「テクノフロンティア(最新特許情報コーナー)」出演

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