サイトアイコン アペリオ国際特許事務所 – APERIO IP ATTORNEYS

高橋 康久

大手化学・光学メーカーでの研究開発の経験を有するプロフェッショナル

Education

2006年 早稲田大学 理工学部 応用物理学科 卒業

2008年 早稲田大学大学院 理工学研究科 応用物理学専攻 光物理学専修 修士課程 修了

Work Experience

2008年~2011年 国内大手化学・光学メーカーに勤務

2011年~ 国内特許事務所に勤務

2018年~ アペリオ国際特許事務所に入所

Bar Admissions

2011年 弁理士登録

Professional Memberships

日本弁理士会

Books & Articles

Y. Takahashi and S. Komatsu, “Optimized free-form phase mask for extension of depth of field in wavefront-coded imaging,” Opt. Lett., Vol. 33, No. 13 (2008) 1515-1517

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